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超薄氮化镓制备及其光学性质

摘要:超薄氮化镓(GaN)是一种厚度在纳米尺度的少层GaN薄片,相对于GaN体材料,量子限域效应会使超薄GaN的禁带宽度增大,超薄GaN有望应用于深紫外电子器件。通过使用微机械剥离法将制备出的少层硒化镓(GaSe)薄片(厚度为1~10 nm)与块状GaSe作为前驱体,氨气作为氮源,在管式炉中不同温度下退火进行氨化,得到超薄GaN及块状GaN。通过X射线衍射、扫描电子显微镜、原子力显微镜、光致发光光谱及拉曼光谱对氨化后样品的形貌、成分、光学特性进行了表征。结果表明,超薄GaN的光学带隙比块状GaN大0.16 eV,拉曼光谱中的纵模光学峰也会随着超薄GaN的厚度减小发生蓝移。

关键词:
  • gase  
  • 氨化  
  • 光学带隙  
作者:
程亮亮; 刘争晖; 徐耿钊; 钟海舰; 张春玉; 陈科蓓; 宋文涛; 徐科
单位:
中国科学技术大学纳米技术与纳米仿生学院; 合肥230026; 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所; 江苏苏州215123
刊名:
半导体技术

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

期刊名称:半导体技术

半导体技术杂志紧跟学术前沿,紧贴读者,国内刊号为:13-1109/TN。坚持指导性与实用性相结合的原则,创办于1976年,杂志在全国同类期刊中发行数量名列前茅。

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