摘要：利用离子束溅射镀膜设备研究了溅射SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(离子束能量、离子束流、氧气流量和靶基距)之间的关系以及薄膜均匀性修正技术。实验结果表明:SiO2薄膜沉积速率随着离子束能量与离子束流增加而增大,随着氧气流量的增加先减小后增大;采用修正板技术后薄膜均匀性明显提高。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
热门期刊
期刊名称：电子工业专用设备
电子工业专用设备杂志紧跟学术前沿，紧贴读者，国内刊号为：62-1077/TN。坚持指导性与实用性相结合的原则，创办于1971年，杂志在全国同类期刊中发行数量名列前茅。
