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氧化处理对碳化硅陶瓷致密性的影响

摘要:采用不同制备工艺(即SiC粉体的预氧化处理),以Al2O3-MgO-Y2O3为烧结助剂,在1 900℃下无压烧结制备SiC陶瓷.用XRD和SEM分析SiC陶瓷微观结构和表面形貌.结果表明:碳化硅粉料未经预氧化处理,制备出的SiC陶瓷表面孔隙相对较小,密度相对较高.SiO2薄层的形成不利于制备高密度、高强度的SiC陶瓷样品.

关键词:
  • 碳化硅陶瓷  
  • 致密性  
  • 预氧化  
作者:
薛明明
单位:
伊犁师范大学物理科学与技术学院; 新疆凝聚态相变与微结构实验室; 新疆伊宁835000
刊名:
伊犁师范学院学报·社会科学版

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

伊犁师范学院学报·社会科学版紧跟学术前沿,紧贴读者,国内刊号为:65-1186/G4。坚持指导性与实用性相结合的原则,创办于1982年,杂志在全国同类期刊中发行数量名列前茅。

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